本文源自:金融界
金融界2025年4月8日消息，国家知识产权局信息显示，深圳市诺斯特新材料有限公司申请一项名为“PCB导电膜生成工艺及PCB导电膜生成设备”的专利，公开号CN 119767545 A，申请日期为2025年3月。
专利摘要显示，本发明提供一种PCB导电膜生成工艺及PCB导电膜生成设备。PCB导电膜生成工艺依次对PCB进行以下步骤的处理：两面粗化、整孔、氧化及催化。整孔、氧化及催化中的至少一个步骤中，包括使PCB通过容纳有处理液的处理槽后送出，处理槽包括处理区域和输出区域，处理区域与输出区域之间设置有液位控制机构；液位控制机构包括活动辊和定位辊；通过平移活动辊，改变活动辊与定位辊之间间隙大小即可调节通道的尺寸，可以改变定位辊上方的处理液流量，从而实时弥补定位辊下方由于PCB通行带来的流量变化，以将处理区域的液位控制在第阈值和第二阈值之间有效避免处理区域的液位过低或过高，保证处理效果的同时，避免浪费，降低生产成本。
天眼查资料显示，深圳市诺斯特新材料有限公司，成立于2012年，位于深圳市，是一家以从事批发业为主的企业。企业注册资本1000万人民币，实缴资本1000万人民币。通过天眼查大数据分析，深圳市诺斯特新材料有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目1次，财产线索方面有商标信息5条，专利信息37条，此外企业还拥有行政许可9个。
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